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半導体CMOSセンサーカラーフィルター形成技術(顔料法・染色について話せます

エキスパート

氏名：開示前

■ 具体的な経験の内容
CMOSセンサーの基板上に形成するカラーフィルター形成技術全般で顔料法カラーフィルター形成技術全般や染色法カラーフィルター形成技術全般の生産技術や工程改善・その他を経験しています。また下地基板(シリコンデバイス)の経験も有り、トータル的なカラーフィルター形成技術全般についてお話出来ます。
■ 実績や成果
カラーフィルター形成技術の染料法形成技術から顔料法カラーフィルター形成技術全般を確立した。
■ そのときの課題、その課題をどう乗り越えたか
カラーフィルター形成技術の生産技術や工程改善や下地基板(シリコンデバイス)との整合を乗り越えた。
■ 関連する論文やブログ等があればURL

■ お役にたてそうと思うご相談分野
CMOSセンサー基板上に形成するカラーフィルター形成技術全般で顔料カラーフィルター形成技術全般や染色カラーフィルター形成技術全般の生産技術や工程改善・その他を経験や下地基板(Siデバイス)の経験も有り、トータル的な生産技術もカラーフィルター形成技術全般についてお話出来ます。
■ 実績や成果

■その他
地域: 日本　大分県　岩手県
役割: マネジメント経験やプロセス技術・材料開発
規模: 社員数　70000人

プロフィール 詳細を見る

氏名：開示前

今までの経験業務の中で習得した、ウエハ前工程・プロセス技術・ウエハ後工程とインテグレーション技術を色々な方面に生かす事や若い世代にその技術を継承して行きたいと考えます。特にAu　Bumpやはんだ各Bump各プロセス・WLP/FOWLPプロセスや組立工程・CMOSカラーフィルタープロセス(顔料・染料)の経験を有しています。この経験で体得した「チャレンジ精神」、「粘り強くやり抜く精神」を生かし、生産技術職に全力を尽くし、各問題点解決を行い、貴社の発展に貢献したいと存じます。

職歴

ESD-JAPAN

  • 代表 2018/5 - 現在

NEPES

  • 専務/技術専務 2014/10 - 2018/4

株式会社東芝

  • 参事・部長付 1990/9 - 2014/8
  • 参事 2001/9 - 2014/3
  • 部長付 2002/4 - 2003/8

ミツミ電機株式会社

  • 主任 1985/11 - 1990/8

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