スパッタリング成膜技術について話せます

エキスパート

氏名:開示前


■背景
スパッタリングは、CVDやALDと比較して、薄膜の密着性や均一性が優れており、特に高精度な膜厚管理が求められる半導体製造で広く使用されますが、CVDやALDは材料特性や膜品質の制御において異なる特長を持っています。 主要なスパッタリング装置メーカーとターゲットメーカーの技術的な違いは、ターゲットの素材や形状、スパッタリング効率などにおいて競争力があり、各メーカーはその差別化技術を通じて市場での競争力を発揮しています。装置メーカでのスパッタリング量産装置の経験から成膜の課題や今後の技術革新についてお話ができます。

■話せること
①スパッタリングと他の成膜技術(CVD/ALDなど)との成膜特性の違い、用途について
②主要なスパッタリング装置メーカー、ターゲットメーカーの技術的な違い、競争力について
③先端ロジック、先端メモリにおけるスパッタリング技術への要求の変化、新たなプロセスについて
④スパッタリングターゲット材料の種類とそれぞれの用途、新材料の採用について
⑤中国メーカーの競争力や今後の脅威について

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氏名:開示前

半導体FPD太陽電池製造装置メーカの設計課長として検証装置及び量産装置の開発で培った装置開発技術と自動車メーカの生産技術部で対応したライン構築の経験を生かして生産装置の開発ができます。また流量計メーカの生産技術部部長として大手半導体製造装置メーカ各社と商品開発と生産ラインの設計開発の経験があります。プロトタイプでの事前検証でのフロントローディング設計及び量産装置での歩留まり改善、装置開発、商品開発のための要素技術についてわたくしの経験からお話ができます。


職歴

職歴:開示前


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