2.1D, 2.5D Interposerの技術について話せます

エキスパート

氏名:開示前


■背景
L/S=3umレベルの配線を施した2.1D. 2.5D Interposer多層配線基板開発の経歴を有する。

■話せること
材料の諸特性について。多層基板の構造・デザイン・加工技術等について。

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氏名:開示前

【知見のある回路基板技術】
・半導体回路基板、2.1D, 2.5D, 3Dインターポーザー、半導体パッケージ
・5Gミリ波PAAM(フェイズドアレイアンテナモジュール)
・高速信号対応の材料開発、ユーザー視点から開発協業
・アルミナセラミックス(1600℃高温焼成)多層回路基板
・グラスセラミックス(800~1100℃低温焼成LTCC)多層回路基板
・窒化アルミ多層回路基板
・AMBインテリジェントパワーモジュール基板
・ABF多層Built up回路基板(L/S≥8/8um, Via.Φ60um, TH.Φ100um)
・多層プリント回路基板(ex. MG6)
・CPCore(京セラでの商品名)(APPE)一括積層多層回路基板
・APX(京セラでの商品名)超微細(L/S=3/3~6/6um, Via.Φ25um, LCP 10umt)多層回路基板(開発のみ)
・APX超微細(L/S=3/3~6/6um, Via.Φ25um, GL102 10umt)多層回路基板
・低誘電率&低誘電正接PPE系統材料の開発(MG6, MG7対抗)(開発のみ)
★HSD: ≦20Gbps
★5G ミリ波PAAM(Phased Array Antenna Module): n-257, n-258 (≦30GHz)

【内部統制】
・構築の仕方
・運営の仕方
・改善効果の確認の仕方


職歴

職歴:開示前


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謝礼金額の目安

¥50,000 / 1時間

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