プラズマプロセッシング、非晶質薄膜形成と評価について経験があります
■ 具体的な経験の内容
非晶質シリコン系、カーボン系薄膜のプラズマCVD形成とその薄膜評価手法
■ 実績や成果
・非晶質SiN膜では有機EL用防湿膜として10万時間相当の防湿性能を達成
・低温ポリシリコンTFTでは、界面準位密度の小さい高移動度のTFTを得た。また、独自の位相変調法を開発し、均一な疑似単結晶アレイを形成
・非晶質カーボン膜（DLC膜）では高性能薄膜磁気ヘッド保護膜を開発
■ そのときの課題、その課題をどう乗り越えたか
SiN膜： 透明性、防湿性を両立する薄膜を得ることが困難という課題があり、①膜組成の最適化、②積層構造の最適化、の2点から解決策を得た。
ポリシリコンTFT: ポリシリコン薄膜トランジスタでは、Si/SiO2界面の制御が難しく、下地にプラズマ損傷を与えない成膜手法を開発した。
■ 業界構造（トレンド/主要プレイヤー/バリューチェーン等）の知見の有無
プラズマCVD装置化の際にはデバイスメーカーの韓国のS社、L社や国内メーカと密に意見交換した経験あり
■ 関連する論文やブログ等があればURL
a-SiN関係
・Novel Surface-Wave-Excited Plasma-Enhanced CVD System with Reciprocationg Substrate Motion, K. Azuma, S. Ueno, M. Suzuki, Y. Konishi and S. Ishida, ECS Transactions, Vol. 28 (15) (2010) 27-33.
・Highly Reliable Encapsulation Films for OLEDs Composed of SiNx and SiOxCy Prepared Using SWP-CVD, S. Ueno, M. Yomogida, M. Suzuki, Y. Konishi and K. Azuma, ECS Transactions, Vol. 50 (41) (2013) 57-64.
・Transparent Silicon Nitride Films Prepared by Surface Wave Plasma Chemical Vapor
Deposition under Low Temperature Conditions, K. Azuma, S. Ueno, Y. Konishi and K. Takahashi,
Thin Solid Films, Thin Solid Films Vol. 580, 2015, 111-115
・The structures of highly transparent, water impermeable SiNx films prepared using SWP-CVD
for organic light-emitting displays, S. Ueno, Y. Konishi and K. Azuma, Thin Solid Films, Vol. 580, 2015, 106-110.
・Highly water-impermeable SiNx film prepared using SWP-CVD and improvement of the barrier performance for organic light-emitting displays, S. Ueno, Y. Konishi and K. Azuma, Thin Solid Films Vol. 580, 2015, 116-119
・Highly reliable encapsulation films for OLEDs composed of SiNx and SiOxCy prepared using SWP-CVD, S. Ueno, M. Yomogida, M. Suzuki, Y. Konishi, K. Azuma, ECS Transactions 50 (41):57-64, 2013
低温Poly-Si TFT関係
・Progress in Surface Science 82 (2007) 3-54.
(Review) Photoelectron spectroscopy studies of SiO2/Si interfaces.
K. Hirose, H. Nohira, K. Azuma, and T. Hattori
・応用物理 第75巻 第7号(2006年) 866-869. 次世代TFT用シリコン薄膜結晶化技術
東 和文、平松 雅人、松村 正清
・レーザー研究, Vol. 34, N
■その他
地域: 東京、神奈川
役割: 研究責任者
規模: 薄膜太陽電池、有機EL、薄膜トランジスタ、フレキシブルTFTで、国プロのコンソーシアムや企業内プロジェクトとして、各数十名程度の体制で研究開発