■半導体組立工程に於けるWLP・FOWLP全般形成技術全般について話せます
デバイス上に形成するBump技術形成プロセス全般・めっき液管理方法を駆使し、銅(Cu)再配線(RDL)技術やポリイミド層間膜形成技術を駆使して、FOWLPやWLPのBump形成技術全般や組立工程全般を経験しています。
生産技術やWLPのBump形成技術全般についてお話出来ます。
■その他
地域: 韓国 SEOUL
役割: マネジメント経験
規模: 社員数2500人
プロフィール 詳細を見る
職歴
ESD-JAPAN
- 代表 2018/5 - 現在
NEPES
- 専務/技術専務 2014/10 - 2018/4
株式会社東芝
- 参事・部長付 1990/9 - 2014/8
- 参事 2001/9 - 2014/3
- 部長付 2002/4 - 2003/8
ミツミ電機株式会社
- 主任 1985/11 - 1990/8
このエキスパートのトピック
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高密度実装関係疑問・質問について話せます
¥55,000~■背景 SiP関係や3D・2.5D・2.8Dの実装関係の経験が有り、色々な事の経験が有ります。 ■話せること SiP関係や3D・2.5D・2.8Dの実装関係の経験が有り、色々な事の経験が有ります。特にプロセス関係とインテグレーション技術等のお話が出来ます。 ■その他 SiP関係や3D・2.5D・2.8Dの実装関係の経験が有り、色々な事の経験が有ります。特にプロセス関係とインテグレーション技術等のお話が出来ます。
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半導体製造ラインに於ける搬送方法・業務についてについて話せます
¥60,000~■背景 長年の間に、生産技術として、6/8/12inchのクリンルームを立ち上げて参りました。 ■話せること 各半導体製造ラインに於ける搬送方法・業務についてお話が出来ます。
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クリ―ルーム環境技術・環境技術・環境監査について話せます
¥50,000~■ 具体的な経験の内容 半導体組立工程に於けるクリーンルーム環境技術(東芝/プロセス生産技術15年間経験) クリーンルーム環境技術を行い、有害物質の除害装置開発・環境負荷低減技術やクリーンルーム環境技術として、ヘパフィルター・ウルパフィルターの選定やクリーンルーム環境技術として、ケミカルフィルターの技術等を経験致しました。また他に環境対応技術としての、ドライカラム(ゼオライト)や除害装置の技術も経験致しました。 ■ 実績や成果 工場のクリーンルーム環境技術確立を行い、有害物質の除害装置開発・環境負荷低減技術やクリーンルーム環境技術として、除害装置の立案・提言・導入を行った。またヘパフィルター・ウルパフィルターの選定やクリーンルーム環境技術として、ケミカルフィルターの技術等や環境監査委員として、後輩の指導も行った。 ■ そのときの課題、その課題をどう乗り越えたか クリーンルーム環境技術は、コストと効果の問題が有り、特に施策に使用した、材料の延命寿命や設備費の低コスト化等の課題を乗り越え実用化を実施した。また稼働後もメンテナンス軽減や各策材のライフアップを取組、効率の良い技術を構築を経験致しました。 ■ 業界構造（トレンド/主要プレイヤー/バリューチェーン等）の知見の有無 クリーンルーム環境技術を行っているメーカーとは、幅広く交流を行った。 ■ 関連する論文やブログ等があればURL 特に有りません。 ■ お役にたてそうと思うご相談分野 クリーンルーム環境技術全般(各フィルター・除害技術・薬剤技術等)には、ご相談を受けられます。 ■その他 地域: 日本・大分県・岩手県 役割: マネジメント(6シグマQE)経験・環境技術・環境監査経験 規模: 総担当50人、