磁気浮上ポンプについて話せます
■背景
磁気浮上ポンプ採用傾向の背景と理由
1. コンタミネーションリスクの低減ニーズ
顧客は歩留まり重視・プロセス清浄度の極限化を求めており、摺動部のない磁気浮上ポンプは摩耗粉ゼロ・漏れゼロとして高く評価されている。
特にCMP(Chemical Mechanical Polishing)やウェットエッチング工程では、わずかな金属粉やシール材からの抽出物もNGとなるため、Mag-Levポンプの需要が明確に高まっている。
2. メンテナンスフリー志向の高まり
顧客装置メーカー(特に海外顧客)からは「24時間365日無停止での稼働」が要求されており、可動部が接触しないMag-Lev構造は保守費用削減の観点でも優位。
特に薬液に触れる部品がない設計(非接触・非金属接液)は、長期使用時の予期せぬ劣化の懸念を回避できる。
3. 次世代装置設計との親和性
装置のモジュール化・ユニット制御が進む中、フィードバック制御やIoT対応がしやすいMag-Lev製品は、制御設計の面でも統合しやすい。
デジタルツイン、予知保全向けセンサ連携との統合もしやすく、装置開発側からの引き合いも強まっている
■話せること
磁気浮上・マグネット式・ダイヤフラムポンプは、高純度流体制御が求められる半導体や医薬・水素分野で重要な役割を果たします。東京計装の超純水対応流量計は、非接触・耐薬品・微少流量の高精度測定という観点で市場要求に対応しており、特に半導体製造装置や水素関連システムでの採用が進んでいます。
■その他
東京計装の装置群(例:薬液供給ユニット、CMP向けスラリー供給装置、超純水搬送装置)における磁気浮上ポンプの採用率は高まってきております。
主に採用されているのは、以下のようなケース:
CMPプロセスでのスラリー搬送(粒子による摩耗・シール劣化の懸念が高い)
強酸・強アルカリなどの高腐食性液体の搬送ライン
超純水供給ラインで、金属溶出を極度に嫌うプロセス
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このエキスパートのトピック
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