感光性材料の設計について話せます

■背景
日立化成（当時、現レゾナック）にて1982年入社時テーマ直接描画用以来、感光性レジストの材料設計を長くやってました。

■話せること
レーザー直接描画用レジスト
488nm, 355nm, 405nmなどガス固体半導体などレーザー光源対応材設計、特に感光剤の光化学設計、選定・合成
主流となった405nmLD直描対応材の開発に携わりシェアトップを得る。

PKG用高解像性感光性レジスト
セミアデイテイブ向け高アスペクト材料の設計、低膨潤設計。トップレベルのSAP向け解像性を得た。

PKG用ソルダレジスト
顔料入りレジスト設計。顧客筋CPUI社向け中心に実装信頼性評価や露光方式対応など図った。

半導体用感光性ポリイミド
i-線ステッパー対応材料；ポリイミド前駆体のUV透明化、厚膜高感度化、PEB活用、低応力ポリイミド設計
海外企業との抗弁事業HDマイクロシステムの立ち上げに参画
海外大手I社、国内M社に採用、その後開発製品は国内海外へ展開、社長技術賞を受けた

■その他
主力製品の開発成功でき実績を残せました。
顧客とのすり合わせ経験ありますので使う側の背景も理解してるつもりです。
特許係争も経験しました。