ディスプレイ製造用フォトマスクの技術開発

■ 具体的な経験の内容
　前職でフォトリソグラフィ材料の開発を経験しており、リソグラフィ工程全体に精通。
　そのため、フォトマスクそのものの開発だけでなく、適切な使い方を含めた顧客との議論を数多く経験し、多くの顧客にて採用、改善提案から顧客での性能、品質向上につなげている。

■ 実績や成果
・出願特許は現職、前職併せて40件以上
・約10年前に、独自のコンセプトでマスク検査装置を開発、現在も稼動中。
・マスクメーカーとして初めて、大型ディスプレイ工程にリソグラフィシミュレーションを導入。
（現在では各社が標準的に利用しているが、その先駆けとなった）
・国内外のディスプレイメーカーに、マスクメーカーとしてパターン設計を提案し、現在も基本パターンとして用いられている。

■ そのときの課題、その課題をどう乗り越えたか
・多くの課題を通じて感じるのは、まず我々と顧客の「技術課題を整理する共通言語」を持たないと議論が成立しにくいこと。そのためには、顧客の課題をどこまで深く理解し、それを両者が理解できる言葉に翻訳出来るかが重要なポイントになる。単に自分達の使うテクニカルタームで一方的に説明するだけでなく、客観的に理解しやすく、共通認識を持ちやすい表現に置き換えていくことで、その後の対策、改良の方策が見えやすくなり、顧客にも理解してもらい易くなる。

■ 業界構造（トレンド/主要プレイヤー/バリューチェーン等）の知見の有無
　一時技術マーケティングの業務も担当していたことがあり、それ以前から関連の装置、材料メーカーとも独自に人脈をもっていることから、業界全体についての知見は豊富に持っていると自負しております。

■ 関連する論文やブログ等があればURL
・日本印刷学会誌　第 47 巻第 6 号（2010）
https://www.jstage.jst.go.jp/article/nig/47/6/47_6_377/_pdf/-char/ja

・33rd European Mask and Lithography Conference, 2017
https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/10446/104460D/Technical-trends-of-large-size-photomasks-for-flat-panel-displays/10.1117/12.2279601.short

■ お役にたてそうと思うご相談分野
　FPD、半導体から、プリント基板、LED、といったフォトリソグラフィを工程として用いる分野において、リソグラフィ課題全般についてご相談いただければと考えています。

■その他
地域: 熊本
役割: 技術サイド中心も顧客との協議にも数多く参加。自身の技術案件構築の他、複数案件とりまとめも並行している
規模: 部門全体の規模は300人程度