半導体リソグラフィー材料分野におけるレジスト材料(主にノボラック系レジスト)及び関連薬液についてお話できます

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経験内容

・半導体業界の黎明期から繁栄期、その後海外特に韓国、台湾、中国に半導体の生産拠点が移行していく過程において、それぞれの国のメーカーとお付合いし、その特徴(長所、短所)を見てきた経験がある。
・レジスト、現像液、剥離液、反射防止膜、シュリンク材料の分野での製品化経験が多い。
・関連分野の特許出願が55件。

どちらでご経験されましたか?

AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社
クラリアントジャパン株式会社
ヘキストジャパン株式会社
東京応化株式会社

いつごろ、何年くらいご経験されましたか?

東京応化株式会社在職中からAZエレクトロニックマテリアルズ株式会社在職中の約30年間

その時どのような立場や役割でしたか?

開発担当として約10年、その後マネジャーとして材料選定、顧客対応、基礎研究、製品開発業務、特許出願、対外発表などに携わる。対象製品は半導体用途及びディスプレイ用途のフォトレジスト材料(ノボラック系レジスト、KrF用化学増幅レジスト)、レジスト現像液、レジスト剥離液、上層及び下層反射防止膜材料、コントラスト増強材料、シュリンク材料等々に携わる。

得意な分野・領域はなんですか?

ノボラック樹脂+ナフトキノンジアジド系感光剤の組合せ組成のフォトレジスト、アルカリ現像液、レジスト剥離液、シュリンク材料など。

氏名・職歴の開示について

氏名:(開示前)

メルクパーフォーマンスマテリアルズ株式会社 / マネジャー

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自己紹介

以下に小職の職歴を記します、ご参考にして頂ければ幸甚です。
☆1979年4月 – 1994年4月 東京応化工業株式会社/リソグラフィー材料研究開発部 課長
*ゴム系ネガレジスト, ノボラック系ポジレジスト, レジスト安全溶剤, CEL, TARC, BARC, 多層プロセス材料, 現像液, 剥離液等の開発業務に従事する。
☆転職 1994年5月~ ヘキストジャパン株式会社/研究開発部所属
*レジスト製造プロセス/プロセス材料の開発業務に従事する。
☆社名変更 1995年1月 ヘキストインダストリー株式会社/ICフォトレジスト研究開発チーム マネジャー
*レジスト溶剤不溶BARC ⇒レジスト溶剤可溶BARC (i-線~KrF), g-線/i-線/Broad band レジストの開発業務に従事する。
☆事業買収 1997年7月 クラリアントジャパン株式会社/ICフォトレジスト研究開発チーム マネジャー
*レジストシュリンク剤, BARC剤, TARC剤(Non-PFOS, Non-PFOA), 水系剥離剤の開発業務に従事する。
☆2001年4月 クラリアントジャパン株式会社/ 研究開発部 部長
*研究開発システム構築(Gate System:開発テーマ設定⇒量産移行までの検証プロセスを構築), 製造プロセス材料開発に関わる。
☆事業買収 2004年10月 AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社/研究開発2部 部長
*ディスプレイ用レジスト材料開発に携わる。
☆2008年1月 AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社/静岡テクノロジーセンター センター長
*サイト管理業務が中心, しばらくの間開発業務から離れる。
☆2015年1月 メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 EHSマネジャー
*EHS業務(サイト管理、安全衛生、化学物質管理)等の業務に従事する。
☆2016年1月 メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社/セミコンダクタ-ソリューションズ 誘電材料研究開発部 マネジャー
*ポリシラザン、ポリシロキサン材料を中心とする塗布型絶縁膜材料の開発業務及び部内管理業務に従事する。           
☆2018年12月 メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社/セミコンダクタ-ソリューションズ R&D アンドテクニカルサービス マネジャー
*再びレジスト開発業務に従事する。

職歴

  • メルクパーフォーマンスマテリアルズ株式会社 /マネジャー

    1994/5 在職中

  • 東京応化工業株式会社 /課長

    1979/4 1994/4