半導体デバイス製造に関するプロセス・装置について話せます

直近では、半導体専門商社の相談役として、客先への同行も承っております。
元々、半導体製造では配線工程の担当でした。ほかにも研究者として、TFTや化合物半導体トランジスタ素子の研究開発も経験し、前工程を含む素子全般のプロセス・装置・材料についてお話しできます。

■どちらで、いつごろ、何年くらいご経験されましたか？
１．コインバンク株式会社/経営コンサルタント/6年目
　半導体専門商社の相談役。製造業の半導体製造関連事業への進出についてコンサルティングし、ものづくり補助金、事業再構築補助金の申請サポートを行っています。(Si半導体、化合物半導体(GaN)、プロセス、工場設備・施設）
２． 2015年1月-2018年3月　Texas Instruments - アナログシリコントランジスタ製造ラインのプロセスエンジニア
地域: 茨城県美浦
役割: 半導体製造ラインの生産技術(配線工程、CVD、エッチング、基板洗浄、アニール、フォトリソグラフィ)
規模: 500人（美保工場）
３．2011年4月-2014年12月　豊田合成株式会社 - インバーター用GaNパワートランジスタ研究開発設備立ち上げ、プロセス開発
地域: 愛知県稲沢市
役割: 研究開発チームのリーダー(GaNトランジスタ製造ライン立ち上げ、ALD、CVD、エッチング、基板洗浄、アニール、フォトリソグラフィ、コーターデベロッパー、酸洗浄、廃液処理、消防法、労働基準法、劇毒物)
規模: 研究開発から試作ラインの立ち上げ(40人規模)、自チームは8名
４．2009年4月-2011年4月　産業技術総合研究所（AIST) - 高機能ロジック向けInGaAsトランジスタの製造プロセス開発
地域: 茨城県つくば市
役割: ポストドクターとしてテーマの立案から成果発表（学会発表・論文発表）まで（ALD開発、InGaAsトランジスタ製造、レジスト検討、SEM、TEM、STM、RHEED、エリプソメトリー（分光器）、エッチング、アッシング）
規模: AIST5人（プロジェクト全体は約30名、大学院生含む）

■得意な分野・領域はなんですか？
・アナログデバイス向けシリコンチップ、GaNデバイス（パワーTr、LED）、薄膜トランジスタの製造プロセス・装置・材料について
・半導体製造装置の仕様策定から立ち上げ(業者のコンペ含む)
・半導体製造プロセスの開発、特許出願まで

■一番誇りに思う成果はなんでしたか？
Texas Instruments - 五年間停滞していた、装置立ち上げのプロジェクトを、1週間で組み直し、３か月後には軌道に乗せたこと。
豊田合成株式会社 - 2年で5億円分のプロセス装置を導入し、プロセス特許取得まで達成したこと。
産業技術総合研究所(AIST) - IEEEのIEDMで学会発表したこと（当時、AISTのデバイス部門からは2人しか採択されず、そのうちの一人となった）

■この分野は今後どうなると思いますか？
半導体産業はAI需要により、長年破られなかったDRAMを越える市場が誕生しました。そのほかにもIoTやVRをはじめとする新アプリケーションや既存産業において、需要に当面の上限はないと考えています。

■参考文献
【特許】
特許公開2013-16792
他3件

【Doctoral thesis】
Low Temperature Fabrication Technologies of Thin Film Transistor by Remote Oxygen Plasma Treatment

【Other related articles】
1.AIST(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)
(1) 9 co-authors
“Correlation between Channel Mobility Improvements and Negative Vth Shifts in III-V MISFETs:Dipole Fluctuation as New Scattering Mechanism”
Electron Devices Meeting (IEDM), 2010 IEEE International. 6.5.1 - 6.5.4

2 publications as a author, and 21 publications as a co-author.